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本初是谁

本初是谁 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消(xiāo)息,国家知(zhī)识产(chǎn)权局(jú)局长申长雨在(zài)新(xīn)闻发布会上表(biǎo)示,将(jiāng)统筹推进各类知识产(chǎn)权法(fǎ)律法规和制度规则的制(zhì)修订工作。其中,修改完善(shàn)集成电(diàn)路(lù)布图设计(jì)保护(hù)条例,适(shì)应大规模集成电路发展(zhǎn)需要,助力芯片产业做大做(zuò)强,服务数字经济更(gèng)好发展。

  加强大数据、人工智能(néng)、基因技术等新领(本初是谁lǐng)域新业态知(zhī)识产权规(guī)则研究,助力相关领域创新(xīn)发展(zhǎn)。同时(shí),积极参与(yǔ)知识产权国际规(guī)则制(zhì)定,更好对接高标准(zhǔn)国际(jì)经(jīng)贸规则,助(zhù)力(lì)高水(shuǐ)平对外开放。

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