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风采风彩两个词的区别是什么,风采风彩两个词的区别在哪 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日(rì)消息,国家(jiā)知识(shí)产权局局长申长雨在新闻发布会(huì)上表示,将(jiāng)统(tǒng)筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的(de)制(zhì)修订(dìng)工作。其中,修改(gǎi)完善(shàn)集成(chéng)电路布(bù)图风采风彩两个词的区别是什么,风采风彩两个词的区别在哪设计保护条例,适应大(dà)规模集成电路发展需要(yào),助力芯片产业(yè)做大做强,服(fú)务数字经济更好发展(zhǎn)。

  加强大数据(jù)、人工智能、基因技术等新领域新(xīn)业态知(zhī)识产权(quán)规则研(yán)究,助力相(xiāng)关(guān)领(lǐng)域创新发展(zhǎn)。同时,积极参(cān)与知识产权国际(jì)规则制定,更好对接高标准国际经贸(mào)规(guī)则,助(zhù)力高水平对外开放(fàng)。

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