大家(jiā)好，来看一则突发消(xiāo)息(xī)。

　　美(měi)光公司(sī)在华销售的产品未(wèi)通过网络安全审查

　　据网信办消息，日前，网络(luò)安全审查(chá)办(bàn)公室依(yī)法对美光(guāng)公司(sī)在华(huá)销售产品进(jìn)行了(le)网络安全审查。

　　审查发现，美光(guāng)公司产品存(cún)在较严重网络安全问题隐(yǐn)患，对我国关键信息(xī)基础设施供应链造成重大(dà)安(ān)全(quán)风险，影响我国国家安全(quán)。为(wèi)此(cǐ)，网络安(ān)全审查办公(gōng)室依法作出不予通过网络安全(quán)审(shěn)查的结论。按照《网络(luò)安全法》等(děng)法律法规，我(wǒ)国内(nèi)关键信息基础设施的运营者应停止采购美光公司产品。

　　此次对美光公司产品进行(xíng)网络安(ān)全审查(chá)，目的是防范(fàn)产(chǎn)品(pǐn)网络(luò)安全问题(tí)危(wēi)害国家关键(jiàn)信息基(jī)础设(shè)施安(ān)全(quán)，是维护国家安(ān)全(quán)的必要措(cuò)施。中国坚定推进高水(shuǐ)平对外(wài)开放，只要遵(zūn)守中国法(fǎ)律法规要求，欢(huān)迎各国企(qǐ)业、各类平(píng)台产品服(fú)务进入中国市(shì)场。

　　3月(yuè)31日，中国网(wǎng)信网发文称，为保障关键信息基础(chǔ)设施供应链安全，防范产品问题(tí)隐(yǐn)患造成网络(luò)安全(quán)风险，维(wéi)护国家安全，依据《中华人民共和(hé)国(guó)国家安(ān)全(quán)法(fǎ)》《中华(huá)人民(mín)共和(hé)国网络安全法》，网络安(ān)全审(shěn)查办公(gōng)室按照《网络安(ān)全审查办法》，对美光公司（Micron）在华销售(shòu)的(de)产(chǎn)品实施网络(luò)安全审查。

　　美(měi)光是美国的存储(chǔ)芯片行业龙头，也是全球(qiú)存储芯片巨头之(zhī)一(yī)，2022年收入(rù)来(lái)自中国市场(chǎng)收(shōu)入(rù)从此前高峰57％降(jiàng)至(zhì)2022年约11％。根据市洗面奶含皂基成分好不好，长期使用氨基酸洗面奶的危害场咨询机构(g洗面奶含皂基成分好不好，长期使用氨基酸洗面奶的危害òu) Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子(zi)、 铠侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力(lì)士、美光在全球 DRAM （内存(cún)）市场份额(é)约(yuē)为 94.35％。

　　A股(gǔ)上市公司(sī)中，江波(bō)龙、佰(bǎi)维存储等(děng)公司(sī)披露过美(měi)光等国际存储(chǔ)厂商(shāng)为(wèi)公司供(gōng)应(yīng)商。

　　美光在江波龙采购占比已经显著(zhù)下降(jiàng)，至少已经不是主(zhǔ)要大供应商。

　　公告显示， 2021年(nián)美光位列江波(bō)龙(lóng)第一大存储晶圆供(gōng)应商(shāng)，采购约31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年，江(jiāng)波龙(lóng)第一大、第二(èr)大和(hé)第(dì)三大供应商(shāng)采(cǎi)购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙已经(jīng)在(zài)存储产业(yè)链上下游建立(lì)国内外广泛合作。2022年(nián)年报显示，江(jiāng)波(bō)龙(lóng)与(yǔ)三星(xīng)、美光、西部数据等主要存储晶圆原厂签署(s洗面奶含皂基成分好不好，长期使用氨基酸洗面奶的危害hǔ)了(le)长期合约，确保存储晶圆(yuán)供应的稳定性，巩固公司在下(xià)游市场的(de)供应(yīng)优势(shì)，公司也与国内国产存储晶(jīng)圆原厂武汉长江存储、合(hé)肥长鑫保持良好的合作。

　　有券商此前就分(fēn)析，如果美光(guāng)在中国区销(xiāo)售(shòu)受到(dào)限制，或将导致(zhì)下游(yóu)客户转而采购国外三星(xīng)、 SK海力士(shì)，国(guó)内长江存储、长鑫存储等竞对产品(pǐn)

　　分(fēn)析称，长(zhǎng)存、长鑫的上游设备厂或从中受益。存储器的生产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代，2 维到3维的结(jié)构转变(biàn)使刻蚀和薄膜成为最关键(jiàn)、最大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄(báo)膜沉积工(gōng)艺(yì)步骤，同时(shí)刻蚀(shí)目前前沿要(yào)刻(kè)到 60：1的深孔，未来可能会更深的孔或者沟(gōu)槽，催(cuī)生更多设备需求。据东京电(diàn)子披(pī)露，薄膜(mó)沉积设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线资(zī)本开支合(hé)计(jì)为75％。自长江(jiāng)存(cún)储被加入美国(guó)限制名单，设备国(guó)产化进程(chéng)加速，看好拓(tuò)荆科(kē)技（薄膜(mó)沉积）等相关公司份额提升，以(yǐ)及(jí)存储业(yè)务占比较高的华(huá)海(hǎi)清(qīng)科（CMP）、盛(shèng)美上海（清洗）等(děng)收入(rù)增长。

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