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吴亦凡还出得来吗

吴亦凡还出得来吗 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知(zhī)识产权(quán)局(jú)局长申长雨在新闻发(fā)布会上表(biǎo)示,将统(tǒng)筹推进(jìn)各(gè)类知识产权(quán)法律法(fǎ)规和制度规则(zé)的制修(xiū)订(dìng)工(gōng)作。其(qí)中,修改完善集成电路(lù)布图设计保护条例,适应大规(guī)模集成电路(lù)发(fā)展需要,助力芯(xīn)片产(chǎn)业(yè)做大做强,服务数字经济更(gèng)好发展。

  加强(qiáng)大(dà)数据、人(rén)工智能、基因技术等新领(lǐng)域新业态知识产(chǎn)权规则研(yán)究(jiū),助力相关(guān)领域创新发展。同时,积(jī)极参(cān)与知识产权国际规则制定,更好(hǎo)对接高标(biāo)准国际(jì)经(jīng)贸规则,助力(lì)高水平(píng吴亦凡还出得来吗)对外开放。

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