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美国管得了比尔盖茨吗

美国管得了比尔盖茨吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则突发消息。

  美光公司在华销售的产品未通过网络安全审查

  据网信办消息,日前,网络安(ān)全审查办公室依法对美光公司在华销售产品进行了网络安全(quán)审查。

  审(shěn)查发现,美光公司产品存(cún)在(zài)较严(yán)重(zhòng)网络安全(quán)问题隐患(huàn),对我国关键信息基础(chǔ)设施(shī)供应(yīng)链造成重大安全风险,影响我国国(guó)家安全。为此,网络安全审(shěn)查办公室依法作出(chū)不予通过网络安全审(shěn)查的结论。按照《网络安全法》等法律法规,我国内(nèi)关键信息基础设施的运(yùn)营者应停(tíng)止(zhǐ)采购(gòu)美光公司(sī)产品。

  此次对美光公司产品(pǐn)进行网(wǎng)络安全审查,目(mù)的是防范(fàn)产品网络(luò)安全问题危害国(guó)家关键信息基础设施安全(quán),是维(wéi)护国家安全的(de)必要措施(shī)。中国(guó)坚定推进高水平对外开放,只要遵守中(zhōng)国(guó)法律法规要求(qiú),欢迎各国(guó)企业、各类平台产(chǎn)品服务进入中国市场。

  半导体突发(fā)!中国出手(shǒu):停止采(cǎi)购!

  3月31日,中国(guó)网(wǎng)信网发文称(chēng),为保(bǎo)障关键信息(xī)基础设施供应链安全,防范产品问题隐患造成(chéng)网络安全风(fēng)险,维护国家安全,依据《中华人民共和国国(guó)家安全法》《中华人(rén)民共和国网络安全(quán)法》,网络安(ān)全审查办公室按(àn)照《网络安全审查(chá)办法》,对美光公司(sī)(Micron)在华(huá)销(xiāo)售的产品实施网络安全审查。

  半导体突发!中国出(chū)手:停止采购(gòu)!

  美光是美国的存(cún)储(chǔ)芯片行业龙(lóng)头,也是全(quán)球存储芯(xīn)片巨头(tóu)之一,2022年(nián)收入来自中(zhōng)国(guó)市场收入从此(cǐ)前高峰57%降至(zhì)2022年约11%。根(gēn)据市(shì)场咨询机构(gòu) Omdia(IHS Markit)统计(jì),2021 年三(sān)星电子(zi)、 铠侠美国管得了比尔盖茨吗、西(xī)部(bù)数据、SK 海(hǎi)力士(shì)、美光、Solidigm 在(zài)全(quán)球 NAND F美国管得了比尔盖茨吗lash (闪存)市场(chǎng)份额约为 96.76%,三星电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全(quán)球 DRAM (内存)市场(chǎng)份额(é)约为 94.35%。

  A股上(shàng)市公司中,江波龙、佰(bǎi)维存储(chǔ)等公司披露过美光等国际存储厂(chǎng)商(shāng)为公司供应商(shāng)。

  美光在江(jiāng)波龙采购占比已经显著下(xià)降,至(zhì)少已经不是(shì)主(zhǔ)要大供应商。

  公(gōng)告(gào)显(xiǎn)示(shì), 2021年美光位列江波龙第(dì)一(yī)大存储晶圆供应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二(èr)大和第三大供应商采(cǎi)购金额占(zhàn)比分别是(shì)26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已(yǐ)经在存(cún)储产(chǎn)业链(liàn)上(shàng)下游建(jiàn)立国内外广泛合作。2022年(nián)年报(bào)显示,江波龙与三星、美光、西部数据(jù)等主要存储晶(jīng)圆原厂签(qiān)署了长(zhǎng)期(qī)合约(yuē),确保存(cún)储晶圆(yuán)供应(yīng)的(de)稳定性,巩固公司(sī)在下游市(shì)场(chǎng)的供应(yīng)优势,公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长江存储(chǔ)、合肥长鑫保持(chí)良好(hǎo)的合作。

  有券商此前就分析,如(rú)果美光在中(zhōng)国(guó)区销售受到限制,或将导致下游客户转而采购国外三(sān)星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫存储等(děng)竞(jìng)对(duì)产品(pǐn)

  分析称,长存、长(zhǎng)鑫的上游(yóu)设备厂或从(cóng)中受益(yì)。存储器的(de)生产已经(jīng)演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代,2 维到3维的结构转变(biàn)使(shǐ)刻蚀和薄膜(mó)成为最关键、最(zuì)大量的(de)加(jiā)工设备。3D NAND每层均(jūn)需要经过薄膜(mó)沉积工艺(yì)步骤(zhòu),同时(shí)刻蚀目前前沿要刻到 60:1的深孔(kǒng),未来可能会更深的孔(kǒng)或(huò)者沟槽,催生更多设备需(xū)求。据(jù)东京电(diàn)子披露,薄膜沉(chén)积设备及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线资本(běn)开支合计为75%。自长江存储被(bèi)加入(rù)美国(guó)限制名单,设(shè)备国产化(huà)进程加速,看好(hǎo)拓荆科技(薄(báo)膜沉积)等相(xiāng)关公(gōng)司(sī)份(fèn)额(é)提升,以及存储业务占比较高(gāo)的华(huá)海清科(CMP)、盛美上海(清(qīng)洗)等收(shōu)入(rù)增长。

 

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