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总监和经理哪个大

总监和经理哪个大 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日(rì)消息,国家(jiā)知识产权局(jú)局长申长雨(yǔ)在新(xīn)闻发(fā)布会上表(biǎo)示,将统筹推进各类知识产权法(fǎ)律法规和制度(dù)规则(zé)的(de)制修订工作。其中,修改完(wán)善集成电路布图设计保护条例,适(shì)应大规模集成电路发展需要,助力(lì)芯片产(chǎn)业(yè)做大做强,服务数(shù)字(zì)经济更好发展。

  加(jiā)强大数据、人工(gōng)智能、基因(yīn)技术等新领域新(xīn)业态知识产权规则研究,助力相关领(lǐng)域创新(xīn)发展(zhǎn)。同时,积(jī)极参与知识产权(quán)国际(jì)规则制定,更好对接高标准国际(jì)经贸规则,助力高水(shuǐ)平对外开总监和经理哪个大放。

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